KOSSWELL Zestaw Szampon Maska do włosów zniszczonych STRUCTURE REPAIR - 2x500ml

KOSSWELL Zestaw Szampon + Maska do włosów zniszczonych STRUCTURE REPAIR - 2x500ml

KOSSWELL Szampon do włosów zniszczonych STRUCTURE REPAIR - 500ml

Szampon regenerujący Kosswell Structure Repair Shampoo do włosów zniszczonych i przesuszonych. Specjalnie opracowana formuła odbudowująca przeznaczona szczególnie do włosów po wszelkiego rodzaju chemicznych zabiegach fryzjerskich, jak rozjaśnianie, trwała ondulacja, farbowanie czy modelowanie wysokimi temperaturami. Nowoczesna technologia Nutri-Activecell chroni włosy przed utratą wilgoci, pielęgnując i odbudowując pasma od wewnątrz. Dodatkowo specjalne wyselekcjonowane restrukturyzacyjne formuły zawierające aminokwasy i białka przywracają włosom siłę witalną, naturalny wygląd oraz blask. Zapobiega puszeniu się, dyscyplinuje nawet włosy średnio-i wysokoporowate. Lekka konsystencja pozwala na codziennie stosowanie bez obciążania włosów.

Sposób użycia: Niewielką ilość kosmetyku nałożyć na wilgotne włosy, następnie delikatnie wmasować w skórę głowy aż do uzyskania spójnej emulsji. Dokładnie spłukać dużą ilością letniej wody. W razie potrzeby powtórzyć czynność.

Formuła bez parabenów.

Pojemność: 500ml

Skład: AQUA, SODIUM LAURETH SULFATE, COCAMIDOPROPYL BETAINE, COCAMIDE DEA, SODIUM CHLORIDE, DISODIUM LAURETH SULFOSUCCINATE, GLYCERIN, GUAR HYDROXYPROPYLTRIMONIUM CHLORIDE, POLYQUATERNIUM-10, HEXYLENE GLYCOL, FRUCTOSE, GLUCOSE, SODIUM ACETATE, ISOPROPYL ALCOHOL, DEXTRIN, SUCROSE, UREA, ALANINE, ASPARTIC ACID, GLUTAMIC ACID, HEXYL NICOTINATE, STYRENE/ACRYLATES COPOLYMER, COCO-GLUCOSIDE, PEG-7 GLYCERYL COCOATE, TETRASODIUM EDTA, PANTHENOL, PROPYLENE GLYCOL, CITRIC ACID, PHENOXYETHANOL, SODIUM BENZOATE, ETHYLHEXYLGLYCERIN, BENZOIC ACID, SODIUM HYDROXIDE, LIMONENE, HYDROXYCITRONELLAL, PARFUM. 

KOSSWELL Maska do włosów zniszczonych STRUCTURE REPAIR - 500ml

Regenerująca maska do włosów Kosswell Structure Repair Mask z nowoczesną technologią Nutri-Activecell. Przeznaczona do suchych, pozbawionych elastyczności i sprężystości włosów. Regeneruje zniszczenia powstałe podczas farbowania, rozjaśniania czy codzienną stylizacją wysokimi temperaturami suszarki, lokówki lub prostownicy do włosów. Dyscyplinuje i utrzymuje pasma w dobrej kondycji z odpowiednim stopniem nawilżenia. Maska do włosów Kosswell Structure Repair Mask działa regenerująco na włókna włosowe. Odbudowuje strukturę włosa narażonego na działanie warunków atmosferycznych, suchego powietrza czy klimatyzacji. Ponadto pielęgnuje i regeneruje włókna kapilarne włosa, które zostały narażone na chemiczne oddziaływania silnych kosmetyków takich jak trwała ondulacja czy rozjaśniacze (barwniki, wybielacze, suszarki do włosów, promienie słońca, mycia itp.). Maska posiada działanie natychmiastowe. Już po pierwszym użyciu włosy odzyskują blask i sprężystość. Dodatkowo długotrwale odżywia, wzmacnia i przywraca witalność włosom.

Sposób użycia: Niewielką ilość kosmetyku nałożyć na umyte i osuszone ręcznikiem włosy. Pozostawić na 2-5 minut i obficie spłukać letnią wodą. Następnie stylizować jak zwykle. Maskę można stosować na włosy jako maksymalnie odbudowujący kompres na minimum 30 minut z czepkiem foliowym i ręcznikiem (pod wpływem ciepła aktywne składniki odżywcze wnikają w głąb włosa).

Pojemność: 500ml

Skład: AQUA, CETEARYL ALCOHOL, BEHENTRIMONIUM CHLORIDE, BUTYROSPERMUM PARKII BUTTER, SYNTHETIC BEESWAX, PROPYLENE GLYCOL, HYDROXYPROPYL STARCH PHOSPHATE, LINOLEAMIDOPROPYL PG-DIMONIUM CHLORIDE PHOSPHATE, CETRIMONIUM CHLORIDE, AMODIMETHICONE, ISOPROPYL ALCOHOL, PANTHENOL, TRIDECETH-12, NIACINAMIDE, BHT, BHA, CITRIC ACID, PHENOXYETHANOL, ETHYLHEXYLGLYCERIN, SODIUM BENZOATE, LIMONENE, HYDROXYCITROELLAL, PARFUM, CI 19140.

*podany skład może ulec zmianie. Pełny skład znajduje się na opakowaniu produktu. 

Informujemy, że dokładamy wszelkich starań, aby prezentowane na stronie grafiki jak najlepiej oddawały rzeczywiste kolory naszych produktów. Czynniki od nas niezależne takie jak m.in. używane w czasie ich oglądania: oświetlenie, rodzaj używanego sprzętu elektronicznego, ustawienia ekranu, czy karty graficzne – wpływają na odbiór/interpretację oglądanych grafik.

W przypadku uczulenia na którąkolwiek substancję zawartą w produkcie może wystąpić reakcja alergiczna.

Maska może występować w dwóch szatach graficznych